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− 2010年02月22日
更新 −
新機能性材料展2010に出展いたしました。
会期:2010年2月17日(水)〜19日(金) 10:00〜17:00
会場:東京ビッグサイト 東6ホール I−01 http://www.kinousei.com/
当社は本年も新機能性材料展に参加致しました。
多数の方々にお越し頂き誠にありがとうございました。
@ 『サーフロン』 (AGCセイミケミカル株式会社)
〜PFOA、PFOS対応のフッ素系界面活性剤〜
A 『SFコート』 (AGCセイミケミカル株式会社)
〜PFOA、PFOS対応の高性能フッ素系フラックス這い上がり防止剤〜
B 『モールドスパット』 (AGCセイミケミカル株式会社)
〜PFOA、PFOS対応の高性能フッ素系離型剤〜
C 『CMS』 (AGCセイミケミカル株式会社)
〜分子中にビニル基とクロルメチル基の二つに官能基を有する反応性の高いモノマー
D 『ルミノックス』、『ルミトップ』 (AGCセイミケミカル株式会社)
〜研削性及びライフに優れた酸化セリウム研磨剤〜
E 『Hybrane』 (DSM)
〜多様な分子設計が可能なデンドリテック(樹状)ポリマー〜
F 『Hypermer(ハイパーマー)』 (クローダジャパン株式会社)
〜ファインセラミックス・電極・ガラスペースト用分散剤〜
G 『OGP(Oil Gelling Polymers)』 (クローダジャパン株式会社)
〜分散安定性に優れた新発想のレオロジー調整剤〜
H 『PreTop』・『TOPSCREEN』 (Topchim)
〜環境対応の撥水,撥油剤
・
水を原料とした製紙用コーティング剤〜
I 『NANOTOPE』 (Topchim)
〜ナノレベル粒子の製紙顔料〜
J 『Chisorb622LT』(Double Bond
Chemical)
〜高温加工に適したHALS〜
K 『Chisorb EPL』(Double Bond
Chemical)
〜エポキシ樹脂に特化した液状タイプの黄変防止剤〜
L 『高機能性材料』(ファインケミカル部)
〜ポリイミド用モノマー・固体電解質モノマー&ポリマー・ 液晶材料〜
M 『受注トータルソリューション』(ファインケミカル部)
〜R&DからQAに至るまでの一括受託業務〜
− 2009年10月10日
更新 −
平成21年度 紙パルプ技術協会 仙台年次大会に
出展いたしました。
会期:平成21年10月7日(水)〜8日(木)
会場:夢メッセみやぎ http://www.yumemesse.or.jp/
当社は本年もAGCセイミケミカル株式会社様ご協力のもと紙・パルプ年次大会に参加致しました。
多数の方々にお越し頂き誠にありがとうございました。
講演: C−1 新規フッ素系界面活性剤の開発
講演者:AGCセイミケミカル株式会社 尾高俊治
日時 :平成21年10月7日(水) 15:20〜15:40
会場 :C会場(夢メッセみやぎ 会場棟 1階 大ホールB)
展示品
1.『サーフロン』(AGCセイミケミカル株式会社)
PFOA、PFOA非含有のフッ素系界面活性剤
2.『CMS』(AGCセイミケミカル株式会社)
分子中にビニル基とクロルメチル基の二つに官能基を有する反応性の高いモノマー。
3.TOPBRANE(DSM社):DSM社が開発した”樹状”ポリマーの紙コーティング
用添加剤
HYBRANEを紙用途に展開した商品です。凝集防止の効果による平滑
性、分散性、光沢、表面強度の向上等、さまざまな目的でご紹介いたしました。
4.QUILON-C(Dupont社):安価で取扱い容易な製紙用撥水剤
さまざまな用途の紙に優れた撥水効果を付与することが可能です。
安価でなおかつ少量で効果を発揮し、塗布も容易なデュポン社
製コーティング用撥水剤です。
5.ゲル化剤(CRODA社):クロシックス
6.分散剤(CRODA社):ハイパーマー等
7.ソフトナー(CRODA社):ラノリン
8.OB(DBC社):蛍光増白剤

新機能性材料展2009に出展いたしました。
会期:2009年2月18日(水)〜20日(金)
会場:東京ビッグサイト 東3ホール K−01 http://www.kinousei.com/
当社は本年も新機能性材料展に参加致しました。
多数の方々にお越し頂き誠にありがとうございました。
1.『サーフロン』(AGCセイミケミカル株式会社)
PFOA、PFOS対応のフッ素系界面活性剤
2.『SFコート』(AGCセイミケミカル株式会社)
PFOA、PFOS対応の高性能フッ素系フラックス這い上がり防止剤
3.『モールドスパット』(AGCセイミケミカル株式会社)
PFOA、PFOS対応の高性能フッ素系離型剤
4.『CMS』(AGCセイミケミカル株式会社)
分子中にビニル基とクロルメチル基の二つに官能基を有する反応性の高いモノマー
5.『ルミノックス』、『ルミトップ』(AGCセイミケミカル株式会社)
酸化セリウム研磨剤。研削性及びライフに優れ、表面品質の厳しい要求に応えます
6.『Micabs』(DSM)
超微細表現可能なレーザーマーキング用マスターバッチ
7.『Hybrane』(DSM)
多様な分子設計が可能なデンドリテック(樹状)ポリマー
8.『Chisorb622LT』(Double Bond Chemical)
酸化フィルムへのメラミン蒸着によるガスバリアコーティング技術
9.『多価金属塩』(Honeywell)
インクジェットプリンタ にじみ防止用
10.『ナノメタル』(Top Nano Technology)
導電材料、抗菌材料、触媒、放熱用
11.『ホスゲンケミカル』
ホスゲンケミカルの受託業務
12.『受注トータルソリューション』
R&DからQAに至るまでの一括受託業務
− 2008年10月14日
更新 −
平成20年度 紙パルプ技術協会
名古屋年次大会に
出展いたしました
会期:平成20年10月8日(水)〜10日(金)
会場:名古屋国際会議場 http://www.ncvb.or.jp/ncc/
当社は本年も紙・パルプ年次大会に参加致しました。
多数の方々にお越し頂き誠にありがとうございました。
1.HYBRANE(DSM社):多様な分子設計が可能なデンドリック(樹状)ポリマー
デンドリマーの機能を保持しつつ、コストダウンを実現したデンドリックポリ
マーです。脚光を浴びておりますデンドリックポリマーの特長を活かした
開発中の用途をご紹介いたしました。
2.TOPBRANE(DSM社):DSM社が開発した”樹状”ポリマーの紙コーティング
用添加剤
HYBRANEを紙用途に展開した商品です。凝集防止の効果による平滑
性、分散性、光沢、表面強度の向上等、さまざまな目的でご紹介いたしました。
3.MICABS(DSM社):超微細表現が可能なレーザーマーキング用マスターバッチ
高速で高精細な画像を表現することが可能なレーザーマーキング用
マスターバッチです。
4.QUILON-C(Dupont社):安価で取扱い容易な製紙用撥水剤
さまざまな用途の紙に優れた撥水効果を付与することが可能です。
安価でなおかつ少量で効果を発揮し、塗布も容易なデュポン社
製コーティング用撥水剤です。
5.その他
AGCセイミケミカル・フッ素系界面活性剤『サーフロン』、DBC社・蛍光増白剤『OB』、
ノボンジャパン・PP、PEの酸化分解剤『デグラノボン』、ハネウェル社・インクジェット滲み
防止用『多価金属塩』、電極触媒、抗菌用『ナノメタル』等を出展。
新機能性材料展2008に出展いたしました。
会期:2008年2月13日(水)〜15日(金)
会場:東京ビッグサイト 東3ホール I−112 http://www.kinousei.com/
当社は本年も新機能性材料展に参加致しました。
多数の方々にお越し頂き誠にありがとうございました。
1.『サーフロン』(AGCセイミケミカル株式会社)
PFOA、PFOA非含有のフッ素系界面活性剤
2.『SFコート』(AGCセイミケミカル株式会社)
PFOA、PFOA非含有の高性能フッ素系フラックス這い上がり防止剤
3.『モールドスパット』(AGCセイミケミカル株式会社)
PFOA、PFOA非含有の高性能フッ素系離型剤
4.『CMS』(AGCセイミケミカル株式会社)
分子中にビニル基とクロルメチル基の二つに官能基を有する反応性の高いモノマー。
5.『ルミノックス』、『ルミトップ』(AGCセイミケミカル株式会社)
酸化セリウム研磨剤。研削性及びライフに優れ、表面品質の厳しい要求に応えます
6.『Freshure Coatings』(DSM)
酸化フィルムへのメラミン蒸着によるガスバリアコーティング技術
7.『Micabs』(DSM)
超微細表現可能なレーザーマーキング用マスターバッチ
●BtoBステージ
日時:2008年2月15日(金) 13:30〜14:00
場所:東3ホール展示会場内特設ステージ
演題:高機能バリア性フィルムの開発
講演:Dr.Shahab Jahromi
(DSM)
※BtoBステージは無料です。是非ともご聴講くださいますようお願い申し上げます。

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